講演情報
[10a-C310-13]複合アニオン化合物ZrNxHyのエピタキシャル成長と物性評価
〇(DC)宮崎 大地1、吉松 公平1、大友 明1 (1.科学大物質理工)
キーワード：
複合アニオン化合物、窒水素化物、エピタキシャル薄膜
我々は最近，複合アニオン化合物ZrNxHyをc面α-Al2O3基板上に薄膜成長する技術を確立したが，面内配向膜の作製が課題であった．本研究では，ZrN および ZrH2 の面内配向温度を調査し，(111) MgO基板上で 600℃における ZrNxHy のエピタキシャル成長を実現した．また、面内配向に伴い，薄膜の残留抵抗率は低下した．講演では，複合アニオン化の電子的な効果についても議論する．