[10a-F211-1~8] 13.3 絶縁膜技術

10:15 〜 10:30

[10a-F211-6] 硫酸を用いたSiO₂/Si 構造の作製の検討

〇鬼塚 翔平¹、上野 智雄¹、岩崎 好孝¹ (1.農工大院工)

キーワード：

溶液酸化法