講演情報

[10a-N101-2]スパッタ法によるAl0.9Ga0.1NチャネルHFETの作製と評価

〇小坂 鷹生1、上野 耕平1、藤岡 洋1 (1.東大生研)

キーワード:

窒化アルミニウム、スパッタリング、HEMT