[10a-N102-1~9] KS5 原子層プロセス研究会

10:00 〜 10:15奨励賞エントリー

[10a-N102-4] 連続吸着による複合酸化膜の室温原子層堆積：TDMATとTMAの競合吸着反応の観察

〇小林 元¹、宮澤 諒¹、三浦 正範¹、有馬 ボシール アハンマド¹、廣瀬 文彦¹ (1.山形大院理工)

キーワード：

原子層堆積法、複合酸化膜

ALDの連続吸着プロセスで、二種類の有機金属原料の複合酸化膜の実現を目指している。多重内部反射型赤外吸収分光法(MIR-IRAS)による吸着反応の観察により、TDMATの飽和吸着表面に対して、後照射のTMAは吸着することが示されたため、最初に酸化チタンの原料であるTDMATを飽和吸着させ、連続で酸化アルミニウムの原料であるTMAを照射した。TMAの照射量変化に対するAl/Ti組成比の変化をXPSで測定した結果、照射量の増加に伴い、Tiの比率が減少した。