2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会

2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会

セッション詳細

一般セッション(口頭講演)KS 研究会セッション：KS5 原子層プロセス研究会

[10a-N102-1~9]KS5 原子層プロセス研究会

2026年9月10日(木) 9:00 〜 12:00

N102 (総合教育棟 N棟)

9:00 〜 9:30

[10a-N102-1][分科内招待講演] 酸化物半導体の原子層堆積技術

〇髙橋崇典¹、浦岡行治¹ (1.奈良先端大)

9:30 〜 9:45

[10a-N102-2]マイクロ波リモートプラズマ源を用いた原子層堆積におけるIn₂O₃の成膜特性

〇丸谷智¹、玉井駿広¹、高橋崇典²、浦岡行治² (1.堀場エステック、2.奈良先端大)

9:45 〜 10:00奨励賞エントリー

[10a-N102-3]毎時プラズマ処理を用いた室温原子層堆積法による酸化亜鉛薄膜の堆積と低温結晶化

〇小澤孝介¹、宮澤諒¹、三浦正範¹、有馬ボシールアハンマド¹、廣瀬文彦¹ (1.山形大院理工)

10:00 〜 10:15奨励賞エントリー

[10a-N102-4]連続吸着による複合酸化膜の室温原子層堆積：TDMATとTMAの競合吸着反応の観察

〇小林元¹、宮澤諒¹、三浦正範¹、有馬ボシールアハンマド¹、廣瀬文彦¹ (1.山形大院理工)

10:15 〜 10:30奨励賞エントリー

[10a-N102-5]プラズマ強化および熱原子層堆積法におけるAlO_x薄膜の成長挙動の温度依存性

〇松尾倖平¹、古谷直大¹、上原知起¹、小林貴之¹ (1.サムコ株式会社)

10:45 〜 11:15

[10a-N102-6][分科内招待講演] 原子層プロセスにおける高アスペクト比構造内部：計測に基づく活性種輸送と反応深さの可視化

〇堤隆嘉¹ (1.名大)

11:15 〜 11:30奨励賞エントリー

[10a-N102-7]ALDプロセスにより形成される膜質分布を積極利用した高自由度な3次元加工形状制御

〇濱野誉¹、久保井信行¹、小林正治¹ (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

11:30 〜 11:45

[10a-N102-8]ALDチャンバー設計における粒子到達傾向の簡易評価

〇稲田明彦¹、鹿又健作¹、佐藤英児¹ (1.（株）クリエイティブコーティングス)

11:45 〜 12:00

[10a-N102-9]液体原料（Sn(EtCp)₂）によるp型SnO薄膜の原子層堆積

〇水谷文一¹、高橋伸尚¹、澤田朋実²、生田目俊秀² (1.高純度化学研、2.物材機構)

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