講演情報
[10a-N102-7]ALDプロセスにより形成される膜質分布を積極利用した高自由度な3次元加工形状制御
〇濱野 誉1、久保井 信行1、小林 正治1 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)
キーワード：
ALD、膜質、中空構造
ALDプロセスでは成膜加工形状および膜質の制御が重要とされる．これまで我々はシミュレーションを用いた予測ならびに実験により，3次元構造内部の膜質は一様ではなく，また成膜条件によってその分布を様々に制御可能なことを報告してきた．今回，多様な形態をとりうる膜質分布を利用し加工プロセスと組み合わせることで，自由度の高い3次元加工形状制御を実現できることを見出した．本講演ではプラズマALDを用いたSiO2成膜とWet処理を組み合わせた複合プロセスによる中空構造作製を例に紹介する．