講演情報
[10p-A21-2]分布型分極ドーピングを用いた耐圧維持層を有するAlN系ショットキーバリアダイオードの超広温度範囲動作
〇佐々木 一晴1、廣⽊ 正伸2、平間 ⼀⾏2、⾕保 芳孝2、前田 拓也1 (1.東大工、2.NTT物性研)
キーワード：
分布型分極ドーピング、窒化アルミニウム、極低温
組成傾斜AlGaN耐圧維持層を持つAlN系SBDは、分布型分極ドーピング(DPD)によって不純物に依存せずにキャリアを誘起することができる。これまで我々は、DPDを活用したAlN系SBDにおいて世界最小のオン抵抗を示すデバイスの試作実証に成功した。本研究では、DPDを活用したAlN系SBDの温度特性について、極低温から超高温まで広い範囲で測定を行ったので報告する。