講演情報
[10p-B12-3]iCVDを用いたポリマー選択成膜
〇市木 和弥1、東雲 秀司1 (1.東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ)
キーワード：
iCVD、選択成膜
本開発では基板上に選択的に阻害性のあるポリマーを成長させることにより、厚い成長阻害膜を形成することを目的とする。選択的にポリマーを成膜するためには、モノマーを選択的に基板に吸着させた上でポリマー成長させるプロセスが望ましい。そのため、本開発ではiCVDを用いてSi,SiO2およびSiN基板上にポリマーの成膜を行い選択性を評価した。