[10p-E206-1~10] 16.3 シリコン系太陽電池

14:30 〜 14:45奨励賞エントリー

[10p-E206-5] RFマグネトロン共スパッタリング法により製膜したICO薄膜の評価

〇篠原 佑太¹、菅谷 亮介¹、中村 竜海¹、Lee Hyunju^2,3、大下 祥雄³、小椋 厚志^1,2 (1.明治大理工、2.明大MREL、3.豊田工業大学)

キーワード：

透明導電膜、RFマグネトロンスパッタリング、SHJ太陽電池

カーボンニュートラル社会の実現に向けて太陽電池の普及および高効率化が望まれている。太陽電池の高効率化の手段として透明導電膜の最適化があげられる。近年注目されている透明導電膜であるICO(CeO₂-doped In₂O₃)薄膜はCeドープ量に関する議論は十分に行われていない。そこで本研究ではICO薄膜をRFマグネトロン共スパッタリング法でCe濃度を変化させて製膜し、その光電特性を評価した。