セッション詳細
[10p-E206-1~10]16.3 シリコン系太陽電池
2026年9月10日(木) 13:30 〜 16:15
E206 (総合教育棟 E棟)
[10p-E206-1]ペロブスカイト/Siタンデム太陽電池用ボトムSi表面テクスチャ形状の検討
〇(M2)副島 幸人1、新間 亮太朗1、杉浦 玄騎2、Lee Hyunju3、大下 祥雄2、小椋 厚志1,3 (1.明治大理工、2.豊田工大、3.明大MREL)
[10p-E206-2]ペロブスカイト/シリコンタンデム太陽電池の高効率化を目的とした中間層用透明導電薄膜材料の研究
〇大下 祥雄1、Hyujyu Lee3、岡田 真拓1、杉浦 玄騎1、Palanisamy Baskaran1、小椋 厚志2,3 (1.豊田工大、2.明大、3.明大MREL)
[10p-E206-3]PEDOT:PSS/Si太陽電池におけるITOスパッタ成膜温度の影響
〇(M1)跡見 柊斗1、村田 拓生1、加藤 慎也1 (1.名工大院工)
[10p-E206-4]RFマグネトロン共スパッタリング法によるTiドープSnO2薄膜評価
〇中村 竜海1、篠原 佑太1、杉浦 玄騎3、Hyunju Lee2,3、大下 祥雄3、小椋 厚志1,2 (1.明治大理工、2.明大MREL、3.豊田工業大学)
[10p-E206-5]RFマグネトロン共スパッタリング法により製膜したICO薄膜の評価
〇篠原 佑太1、菅谷 亮介1、中村 竜海1、Lee Hyunju2,3、大下 祥雄3、小椋 厚志1,2 (1.明治大理工、2.明大MREL、3.豊田工業大学)
[10p-E206-6]Cat-CVD SiOxNyパッシベーション膜の薄膜化がパッシベーション特性に与える影響
〇宋 一諾1、前田 健作1、大平 圭介1 (1.北陸先端大)
[10p-E206-7]Factors Affecting the Passivation Performance of Non-Stoichiometric Cat-CVD SiNx Films
〇Yuehong Shan1, Kensaku Maeda1, Keisuke Ohdaira1 (1.JAIST)
[10p-E206-8]Cat-CVD装置での水素ラジカル処理と犠牲SiNx:H層処理によるTOPCon構造のパッシベーション特性比較
〇YIN DUANYI1、前田 健作1、大平 圭介1 (1.北陸先端大)
[10p-E206-9]ナノ結晶シリコン/酸化シリコン複合膜の構造特性が熱処理後のパッシベーション効果に及ぼす影響
〇高木 香1、黒川 康良2,4,5、増田 淳1,3、宇佐美 徳隆4,5,6、後藤 和泰1,3 (1.新潟大自然研、2.関西大院理工、3.新潟大 IRCNT、4.名大院工、5.名大未来機構、6.名大未材研)
[10p-E206-10]シリコンナノ結晶/酸化シリコン複合膜を用いたホールコンタクトにおける水素およびボロン添加条件の検討
〇(D)山口 大翔1,2、黒川 康良1,3、宇佐美 徳隆1,2,4 (1.名大院工、2.名大未来機構、3.関西大院理工、4.名大未来研)
