講演情報

16:15 〜 16:30

[10p-E218-11]ミニマルレーザ加熱装置よる水素雰囲気表面処理の半導体CMOSデバイスへの応用検討(Ⅳ)

〇佐藤和重^1,2、千葉貴史^1,2、寺田昌男^1,2、濱田健吾^1,2、金森義明³、三浦典子⁴、池田伸一⁴、原史朗⁴ (1.ミニマルファブ推進機構、2.坂口電熱、3.東北大、4.産総研)

レーザ加熱