講演情報
[10p-E218-2]小口径向けウェハドロップレット洗浄技術を用いたウェハ乾燥
〇根本 一正1、三浦 典子1、池田 伸一1、原 史朗1,2 (1.産総研、2.(株)Hundred Semiconductors)
キーワード：
ミニマルファブ、ウェハ洗浄技術
ミニマル洗浄装置の乾燥プロセスは、薬液洗浄プロセス、続くリンスプロセスと同じプロセス室で行われ、乾燥はN2吐出とステージ回転で行われる。N2で満たされたプロセス室内の気体の流動はウェハステージが高速回転になるにつれてN2吐出流れより回転流れの方が支配的になり、湿気を含む気体は層流化し、排気ラインへ排出される流れが出来ることにより、ウォーターマークを大幅に抑えるウェハ乾燥ができることが分かった。