講演情報
[10p-E218-6]生産に向けたマイクロプラズマエッチング装置のエッチングレート安定化
〇関藤 竜平1、居村 史人1、田中 宏幸2、三浦 典子2、池田 伸一2、原 史朗1,2 (1.Hundred Semiconductors、2.産総研)
キーワード：
ミニマルファブ、ばらつき
我々が開発を進めているミニマルファブは既にデバイス開発フェーズから、生産フェーズへ移行しつつある。生産では、各プロセスの再現性(ウェハ間ばらつき)が非常に重要である。本研究ではミニマルファブのエッチング装置の一つである、マイクロプラズマエッチング装置に着目し、レジストのエッチングレートのウェハ間ばらつきと、そのばらつきの安定化手法について調べた。