[10p-E310-1~11] 低温プラズマによる半導体加工の未来

15:05 〜 15:35

[10p-E310-5] ナノスケールデバイスに向けた高精度プラズマエッチング技術

〇森本 未知数¹ (1.日立ハイテク)

キーワード：

プラズマ、エッチング、ECR

先端ロジックデバイス製造においては、FinFETやGAAナノシートに代表される三次元・多材料構造に対し、高精度形状制御と低ダメージ加工の両立が求められる。本講演では、パルス変調およびサイクリックプロセスを組み合わせたプラズマエッチングによる高精度加工制御について紹介する。