講演情報

[10p-PA2-8]PCL支援ドライ転写による室温vdW強磁性体Cr3Te4の大面積メンブレン化とその構造評価

〇松尾 芽来1、遠藤 幹大2、山崎 大輔1、板橋 勇輝3、岩佐 義宏3、中野 匡規1 (1.芝浦工大工、2.東大院工、3.理研創発)

キーワード:

強磁性体、メンブレン

フレキシブルデバイス応用に不可欠なファンデルワールス(vdW)物質の自立化に向け、ポリカプロラクトン(PCL)を用いた乾式剥離・転写手法について報告する。MBE法で合成した室温強磁性を示すC3Te4薄膜に本手法を適用し、cmスケールの大面積メンブレン作製に成功した。講演ではフレキシブルスピントロニクス応用を見据え、プロセスの詳細とメンブレン化後の構造評価結果を解説する。