講演情報
[10p-S5-8]試料上方からの大気圧プラズマ処理を援用した転写プリント集積技術の検討
〇(M2)征矢 有真1、亀山 暉弘1、伊藤 秀真1、藤田 晃成1、山家 健1、角田 雅弘2、荒川 泰彦2、太田 泰友1 (1.慶應理工、2.東大ナノ量子)
キーワード：
転写プリント、プラズマ
転写プリント法は高度な異種材料光集積技術として注目されるが、接着性やポストプロセス耐性の検討は十分でない。我々は以前、大気圧プラズマ処理による半導体薄膜の接着改善を報告したが、ピックアップ後の裏面処理はスループット低下が課題であった。今回、ピックアップ前の半導体薄膜へ上方から大気圧プラズマを照射した場合でも接着改善が確認されたため報告する。