講演情報
[10p-S5-9]化合物半導体微小薄膜の個別・高速転写プリント集積に向けた基礎検討
〇亀山 暉弘1、伊藤 秀真1、藤田 晃成1、山家 健1、權 晋寛2、角田 雅弘2、荒川 泰彦2、太田 泰友1 (1.慶應理工、2.東大ナノ量子機構)
キーワード：
転写プリント法
異種材料ハイブリッド光集積では、良品を事前選別できる転写プリント法が注目されている。一方、個別選択を伴う転写集積ではリリース工程が律速となるため、転写サイクルの高速化が求められる。本研究では、プラズマ処理によるサンプルとレシーバ基板間の接着力向上を利用し、個別転写の高速化を検討した。その結果、転写条件の最適化により、1転写サイクルを2秒まで短縮した。