講演情報

シンポジウム(口頭講演)シンポジウム：原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（４）

[11a-B21-1~7]原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（４）

2026年9月11日(金) 9:00 〜 11:30

B21 (工学部 B棟)

座長：百瀬健(熊本大)、唐橋一浩(名大)

最先端半導体デバイス製造で重要性が高まる原子層堆積（ALD）・原子層エッチング（ALE）をはじめとする原子層プロセス（ALP）を、解析と応用の両面から俯瞰するシンポジウムです。午前は英語セッションとして，次世代半導体向けALDや新規材料をテーマとした海外招待講演3件に加え，KMC法やNNPを活用した反応解析などに関する一般講演3件の，計6件を予定しています。

11:00 〜 11:30英語発表

[11a-B21-7]Transition metal carbide thin films prepared by atomic layer deposition: A new enabler for advanced metallization process

〇Soo-Hyun Kim¹ (1.Ulsan National Institute of Science and Technology)

キーワード：

ALP

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