2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会
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9:45 〜 10:00
[11a-C309-4]
Si(110)基板上SiGe/Si多層膜のMBE成長と臨界膜厚評価
〇加藤 惠太郎
1
、萩原 智大
1
、澤野 憲太郎
1
、山田 道洋
1
、三谷 祐一郎
1
(1.東京都市大)
キーワード:
SiGe、Si(110)、MBE
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