[11a-E201-1~8] 13.3 絶縁膜技術

9:30 〜 9:45

[11a-E201-3] 真空一貫プロセスによるAl₂O₃/GeO₂/Ge構造の原子層堆積技術

〇加藤 芳規¹、坂下 満男¹、黒澤 昌志¹、中塚 理^1,2、柴山 茂久¹ (1.名大院工、2.名大未来研)

キーワード：

原子層堆積法、パッシベーション、Ge