講演情報

[11a-E206-3]四探針法によるAg添加Mg2Si単結晶の面内抵抗率分布と幾何補正の影響

〇島野 航輔1、大河原 穣1、坂根 駿也1、鵜殿 治彦1 (1.茨城大)

キーワード:

Mg2Si、面内抵抗率分布、幾何補正

Mg2Siは赤外検出器・熱電材料として期待され、電気特性の空間分布評価が重要である。本研究ではAg添加Mg2Si単結晶に対し、プローブ間隔0.1mmおよび1.0mmの四探針法で面内抵抗率分布を測定し、試料サイズに起因する幾何補正の影響を検討した。