講演情報
[11a-E308-4]エネルギー制御Arプラズマ処理によるSiO2基板上グラフェンの局所仕事関数変化
〇福田 旺土1、虻川 匡司2,1、鷹林 将3 (1.東北大 多元研、2.東北大 SRIS、3.有明高専)
キーワード：
グラフェン、光電子制御プラズマ、光電子顕微鏡
優れた特性を持つ単層グラフェンのデバイス応用には電子状態制御が不可欠である。本研究では、エネルギー制御できる光電子制御プラズマによるグラフェンの構造制御を行い、PEEMによる局所二次電子分光から仕事関数への影響を評価した。結果、処理領域では未処理に比べ約0.3〜0.4 eVの仕事関数の低下を観測した。これはp型化に伴う表面ダイポールの緩和で説明でき、先行のXPS結果と整合する。