2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会
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一般セッション(口頭講演)17 ナノカーボン・二次元材料：17.1 成長・成膜・構造制御

[11a-E308-1~8]17.1 成長・成膜・構造制御

2026年9月11日(金) 9:00 〜 11:00
E308 (総合教育棟 E棟)
9:00 〜 9:15奨励賞エントリー

[11a-E308-1]垂直配向多層グラフェンの合成と電池負極性能の向上

〇矢吹 和詩1、野沢 公暉1、末益 崇1、都甲 薫1 (1.筑波大)
9:15 〜 9:30

[11a-E308-2]Ar/H2雰囲気下におけるNi上へのグラフェンのスパッタ製膜

〇菊名 吏穏1,2、中野 武雄1、村上 勝久2、長尾 昌善2、村田 博雅2 (1.成蹊大、2.産総研)
9:30 〜 9:45

[11a-E308-3]h-BN単結晶上グラフェン気相－固相成長に対する
オゾンクリーニング前処理の効果

〇横尾 春輝2、笹沼 碧2、川崎 登朝1、神田 哲志2、坂本 文孝3、小林 慶裕3、渡邊 賢司4、谷口 尚4、根岸 良太1,2,3 (1.東洋大理工、2.東洋大院理工、3.BN研究センター、4.NIMS)
9:45 〜 10:00奨励賞エントリー

[11a-E308-4]エネルギー制御Arプラズマ処理によるSiO2基板上グラフェンの局所仕事関数変化

〇福田 旺土1、虻川 匡司2,1、鷹林 将3 (1.東北大　多元研、2.東北大　SRIS、3.有明高専)
10:00 〜 10:15英語発表

[11a-E308-5]Honeycomb-like carbon layer commensurate with
(√(3)×√(3))R30^°-Si2N3/SiC(0001)

〇(D)Sukran Kutlu1, Anton Visikovskiy1, Jo Onoda2, Satoru Tanaka1,3 (1.Kyushu Univ., 2.Univ. Teacher Edu. Fukuoka, 3.Taiwan Tech.)
10:15 〜 10:30

[11a-E308-6]還元型酸化グラフェン表面上のグラフェン成長メカニズムの解析

〇神田 哲志1、黒須 俊治2、花尻 達郎1,2、仁科 勇太3、小林 慶裕2、根岸 良太1,2 (1.東洋大院理工、2.バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター、3.岡山大学)
10:30 〜 10:45

[11a-E308-7]酸化ゲルマネンの安定性と水素による還元

〇鈴木 誠也1、小澤 孝拓2、津田 泰孝1、寺澤 知潮1,2、勝部 大樹3、矢野 雅大1、佐藤 志彦1、吉越 章隆1 (1.原子力機構、2.東大生研、3.ファインセラミックスセンター)
10:45 〜 11:00

[11a-E308-8]Mo原料と酸素を用いたCVDによるa軸配向α-MoO3薄膜の成長

〇小川 友以1、Krockenberger Yoshiharu1、Gregus Michal1、河野 慎1、小林 正起1、Wang Shengnan1、谷保 芳孝1 (1.NTT物性研)
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