講演情報
[11a-PA2-4]レーザ照射Siの改質層におけるボイド形成過程の分子動力学解析
〇(M2)奥園 洸樹1、石丸 学1 (1.九州工大)
キーワード：
レーザ加工、ステルスダイシング、分子動力学シミュレーション
ステルスダイシングにおいて、内部に形成されるボイドはウエハ分割の起点として働くが、その形成メカニズムは未だ明らかではない。本研究では、レーザ照射Siにおけるボイド形成メカニズムを分子動力学法により調査した。レーザ加熱と冷却により4.5%の体積が残留し、ボイドの形成が再現された。中心部の膨張圧で周囲の結晶が不可逆な構造歪み（塑性変形）を起こし、ボイド形成に重要な役割を演じていることが示唆された。