講演情報
[11p-A31-6]DLC形成用高速フィルタードアーク蒸着装置へのシールド法の適用
〇佐野 春1、佐野 絃貴1、滝川 浩史1、服部 貴大2、儀間 弘樹2 (1.豊橋技科大、2.オーエスジー（株）)
キーワード：
tetrahedral amorphous carbon、高速フィルタードアーク蒸着装置、真空アーク蒸着法
本研究では，真空アーク蒸着装置（HR-FAD）によるta-C膜の高速成膜において，膜へのドロップレット付着量をさらに削減することを目的とし，シールド法を適用した。幅20 mmのシールド板を配置して成膜実験を行った結果，プラズマ出射口の中心部においてドロップレット数が極端に減少することを確認した。一方，シールドゾーンから外れた位置では，シールド板の有無による大きな差は見られなかった。