[11p-B21-1~9] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（４）

13:30 〜 14:00

[11p-B21-2] ナノ層で拓く次世代半導体：薄膜成膜の最先端

〇芦原 洋司¹ (1.KOKUSAI ELECTRIC)

キーワード：

半導体、原子層堆積、薄膜

先端半導体の製造で用いられる薄膜成膜技術について解説する。特にナノレベルな薄膜体積法であるALD法の適用状況、課題、今後必要となるBeyond ALDについても述べる。