講演情報
[11p-B21-3]ALDアルミナ成膜における酸化剤が膜組成に及ぼす影響
〇松尾 保孝1、石 旭1,3、遠堂 敬史1,3、中村 圭佑3、西田 章浩1,2 (1.北大電子研、2.（株）ADEKA、3.北大総合イノベ)
キーワード：
原子層堆積法、酸化物薄膜、微細加工
本講演では、TMAを原料としたアルミナ成膜において、酸化剤（水、オゾン）や温度、キャリアガスが膜質・膜組成に及ぼす影響を検討する。XPS、SIMS、XRR等の分析により、特に酸化剤による膜中H（水素）残存量の違いが電気特性や熱伝導特性へ与える影響を評価・構造解析する。また、北海道大学が参画するマテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）事業における、ALD装置による研究開発支援内容も紹介する。