講演情報
[11p-B21-4]プラズマプロセスインフォマティクスによる薄膜形成の理解と制御
〇鎌滝 晋礼1、Fitriani W. Sukma2、長嶺 一輝1,2、白谷 正治1 (1.九大シス情、2.九大IMI)
キーワード：
半導体プラズマプロセス、プロセスインフォマティクス、物理特徴量設計
半導体プラズマプロセスにおける薄膜形成では、膜厚、組成、応力などの膜質制御が重要である。本講演では、PECVDを対象に、OES計測と機械学習を組み合わせたプラズマプロセスインフォマティクスを紹介する。特にPaMISに基づき、発光情報を電子密度、電子温度、イオン・ラジカルフラックスなどの物理特徴量へ変換し、SiO₂およびDLC薄膜の膜質予測とプロセス解釈への展開を述べる。