講演情報
[11p-E201-1]デジタル処理DCスパッタによる(HfO2)(ZrO2)薄膜の非加熱合成
〇一色 秀夫1、藤谷 愉史1、日野 逸己1、桂 雄大1、宇田川 浩太1、塚本 貴広1 (1.電通大院基盤理工)
キーワード：
強誘電体、スパッタ、HfZrO4(HZO)
デジタル処理DCスパッタリング（DPDS）は、金属ターゲットに対して高精度制御パルスDCスパッタリングとそれに同期する反応性ガスパルスを用いることで、超薄金属膜の堆積と表面酸化を交互に行うプロセスによりLBL堆積を可能にする。本報告では、DPDSによる不揮発性光位相シフタに向けた強誘電性(HfO2)(ZrO2)（HZO）薄膜の非加熱合成を紹介する。