[11p-E201-1~15] CS.6 6.1 強誘電体薄膜 、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

16:15 〜 16:30

[11p-E201-13] 界面に常誘電層を有する強誘電性薄膜HfO₂キャパシタにおける内部電界分布

〇鳥海 明¹、右田 真司² (1.自由業、2.産総研)

キーワード：

強誘電体HfO2キャパシタ特性

MFIMキャパシタにおける内部電荷分布が膜厚、誘電率などによってどのように変化するかを議論する