[11p-N304-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

13:30 〜 13:45

[11p-N304-1] MS界面におけるショットキー障壁形成の考え方 (III)

〇鳥海 明¹、西村 知紀² (1.自由業、2.東大工)

キーワード：

ショットキー障壁、フェルミレベルピンニング

金属/半導体界面におけるショットキー障壁形成機構についての新しいモデルを提案する