講演情報
[11p-N304-2]AlSi/Si基板界面における酸素起因の接触特性変化と熱処理によるオーミック性回復
〇木村 慎治1、田中 盛光1、稲川 浩巳1、村中 誠志1 (1.ルネサス)
キーワード：
金属/Si界面、オーミック接触、熱処理
AlSi/Si界面における酸素の影響と熱処理による接触特性の回復を評価した。ポリイミド由来揮発成分により界面酸素が増加し接触抵抗が悪化する。一方、熱処理により酸化膜の還元と元素拡散が進行し、AlとSi基板の直接接触領域が増加することで局所的にオーミック性が回復し、電気特性が改善することを示した。