講演情報

[8a-A21-8]縦型GaN JBSダイオードの順方向電流–電圧特性に対するTCAD解析によるドリフト層電子移動度の評価

〇北川 和輝1、上杉 勉2、堀田 昌宏1,2、加地 徹2、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)

キーワード:

窒化ガリウム(GaN)、電子移動度、縦型JBSダイオード