セッション詳細

[8a-A21-1~10]13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2026年9月8日(火) 9:00 〜 11:45
A21 (情報研究棟)

[8a-A21-1]微細銀ナノ粒子による低温(100℃以下)焼結材料の生成について

〇森永 智1、依田 眞一1、白石 倖也2、徳田 誠2 (1.京石ナノ研、2.熊大工)

[8a-A21-2]Bi2Te3系化合物半導体における銀焼結接合部の環境信頼性評価

〇(M1)郷原 陽向1、辻横 一1、桂 章皓1、浜田 尚毅1、岡西 音哉1、廣瀬 由紀子1、菅原 徹1 (1.京工繊大)

[8a-A21-3]光ヘテロダイン光熱変位法を用いた太陽光パネル由来Mg2Si化合物の局所熱物性評価

〇橋本 壮大郎1、鵜殿 治彦2、伊藤 孝至3、宇佐美 徳隆3、福山 敦彦1 (1.宮崎大工、2.茨城大工、3.名古屋大工)

[8a-A21-4]60 nmゲートInP-HEMTにおける寄生オーバーラップ容量の定量解析

〇佐々木 太郎1、杉山 弘樹1、星 拓也1、吉屋 佑樹1、尾崎 史朗1、中島 史人1 (1.NTT先デ研)

[8a-A21-5]光励起およびバイアス印加下におけるAlGaN/GaNヘテロ構造の電気化学インピーダンス解析

〇高橋 円空1、赤澤 怜明1、熊倉 一英1、谷保 芳孝2、佐藤 威友1 (1.北大量集センター、2.NTT物基研)

[8a-A21-6]AlNチャネル層上に形成した高Al組成(x>0.4)AlxGa1-xN層の光電気化学エッチング

〇赤澤 怜明1、髙橋 円空1、熊倉 一英1、廣木 正伸2、谷保 芳孝2、平間 一行2、佐藤 威友1 (1.北大量集センター、2.NTT物基研)

[8a-A21-7]ソース接続GaN Polarization Superjunction FETの電流コラプスにくし形PSJ構造が及ぼす影響についての検討

〇小久保 瑛斗1、渡邉 浩崇2、出来 真斗3、田中 敦之2、本田 善央2,3,4、天野 浩2,3,4 (1.名大院工、2.名大IMaSS、3.名大Dセンター、4.名大IAR)

[8a-A21-8]縦型GaN JBSダイオードの順方向電流–電圧特性に対するTCAD解析によるドリフト層電子移動度の評価

〇北川 和輝1、上杉 勉2、堀田 昌宏1,2、加地 徹2、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)

[8a-A21-9]ハライド気相成長(HVPE)GaN縦型p–nダイオードの高耐圧化に向けた深堀垂直メサ構造の検討

〇村山 隆1、西脇 千裕1、井出 峻輔1、伊藤 稜真1、堤 美結1、平山 竣也1、丸繁 太一1、中谷 航1、藤元 直樹2、田中 敦之2、本田 善央2,3,4、天野 浩2,3,4 (1.名大院工、2.名大IMaSS、3.名大Dセンター、4.名大IAR)

[8a-A21-10]GaN分極超接合トランジスタの素子分離方法がオフリーク電流に及ぼす影響

〇石本 聖治1、田中 敦之1、小久保 瑛斗2、本田 善央1,3,4、天野 浩1,3,4 (1.名大 IMaSS、2.名大院工、3.名大 Dセンター、4.名大 IAR)