講演情報
[8a-B11-4]TiN膜高速形成用真空アーク蒸着装置における陰極点挙動に及ぼす圧力の影響
〇越智 将伍1、滝川 浩史1、服部 貴大2、儀間 弘樹2 (1.豊橋技術科学大学、2.オーエスジー（株）)
キーワード：
TiN、真空アーク蒸着、ステアド法
TiN膜高速形成用真空アーク蒸着（HR-FAD）装置において，窒素雰囲気条件が陰極点挙動に及ぼす影響を調査した。Ti陰極を用い，窒素ガス流量および圧力を変化させて陰極点運動を観察した。その結果，陰極点運動速度は圧力の増加に伴い減少する傾向を示し，雰囲気条件が陰極点挙動に影響を及ぼすことが示された。