[8a-B32-1~11] 12.2 評価・基礎物性

9:00 〜 9:15

[8a-B32-1] 加熱銅ノズルによるヘキサブロモトリフェニレン分子の脱臭素化

山口 真広¹、坂上 弘之¹、富成 征弘²、田中 秀吉²、〇鈴木 仁¹ (1.広島大院先進理工、2.情通機構)

キーワード：

走査トンネル顕微鏡、グラフェンナノ構造、ウルマン反応

加熱銅ノズルを用いてヘキサブロモトリフェニレン分子をAu(111)基板上に蒸着し，銅ノズルが分子に与える影響をSTMによって評価した．銅ノズルの温度が高いほど，分子から解離する臭素原子の数は増加し，臭素原子の解離する分子の割合も増え，加熱銅ノズルによる脱臭素化の効果を実証できた．