[8p-A21-1~18] 6.4 薄膜新材料 | 2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会

〇(P)Priyanka Sangwan^1,2, Kenji Watanabe^1,2, Madhuvthani Saminathan¹, Toshiaki Fujita³, Masaharu Matsunami^1,2, Tsunehiro Takeuchi^1,2 (1.Toyota Tech. Inst., 2.JST- MIRAI, 3.Mitsubishi Material Corp.)

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15:45 〜 16:00奨励賞エントリー

[8p-A21-9]MgO(001)およびSrTiO₃(001)基板上における<001>配向Pt超薄膜のエピタキシャル成長

〇秋田宗志¹、曾布川優樹¹、都甲薫¹、末益崇¹ (1.筑波大院)

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16:00 〜 16:15奨励賞エントリー

[8p-A21-10]水溶性犠牲層とトポケミカル反応を用いたフッ化セリウム自立膜の作製

〇上垣外明子¹、中野歩花¹、簔原誠人²、近松彰¹ (1.お茶大理、2.産総研)

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16:15 〜 16:30奨励賞エントリー

[8p-A21-11]超伝導X線検出器を用いた軟X線吸収分光法によるチタン酸ストロンチウム薄膜の酸素の異方的な電子状態

〇(M1)内藤康太¹、中島伸夫¹、Yang Weirong²、安井伸太郎²、志岐成友³、Anspoks Andris⁴ (1.広島大院先進理工、2.東京科学大ZC研、3.産総研、4.ISSP, Univ. of Latvia)

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16:30 〜 16:45奨励賞エントリー

[8p-A21-12]Si基板上エピタキシャルLaNiO₃薄膜における水素化誘起熱伝導率スイッチング幅の結晶配向依存性

〇財前遥¹、李好博^1,2、中川原修³、ジョンアロン⁴、太田裕道⁴、田中秀和^1,2 (1.阪大産研、2.阪大先導的学際研究機構、3.I-PEX Piezo Solutions Inc、4.北大電子研)

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17:00 〜 17:15奨励賞エントリー

[8p-A21-13]In₂O₃薄膜の熱伝導率

〇(D)定平光¹、吉村充生¹、プラシャントゲディヤ²、曲勇作²、太田裕道² (1.北大院情報、2.北大電子研)

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17:15 〜 17:30奨励賞エントリー

[8p-A21-14]複合成膜により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜(6)

〇森川康大¹、田島直弥¹、若宮大生²、室谷裕志¹ (1.東海大院工、2.(株)日本製鋼所)

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17:30 〜 17:45奨励賞エントリー

[8p-A21-15]酸化物薄膜を有するPEFCステンレスセパレータの表面処理による高性能化

〇(M2)天満結菜¹、加藤慎也¹ (1.名工大院工)

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17:45 〜 18:00奨励賞エントリー

[8p-A21-16]ミスト化学気相成長法による金属有機構造体配向薄膜の合成

〇(M1)古根村祐太¹、岡大地¹、庄田伊吹¹、井上裕貴¹、廣瀬靖¹ (1.都立大院理)

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18:00 〜 18:15奨励賞エントリー

[8p-A21-17]超伝導回路応用に向けたRu–Re合金薄膜の作製と超伝導特性評価

〇増沢向凌^1,2、Sikdar Subhrajit¹、古川耕大^1,2、原田尚之^1,2 (1.NIMS、2.理科大院先進工)

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18:15 〜 18:30

[8p-A21-18]In-situ XPS解析に基づくTa表面化学状態制御によるCu薄膜の低抵抗化

〇大野幸亮¹、町田葉祐¹、隣嘉津彦¹、野瀧恭司²、十河真生²、坂井大輔²、藤村修三^2,3 (1.アルバック、2.アルバックファイ、3.東京科学大学)

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