[8p-B11-1~16] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

17:00 〜 17:15

[8p-B11-12] CHF₂CF₂CH₂F分子の電子物性と解離

〇林 俊雄¹、石川 健治¹、関根 誠¹、堀 勝¹ (1.名古屋大学)

キーワード：

CHF2CF2CH2F、エッチングガス、一次解離過程

CHF₂CF₂CH₂Fの解離特性について解析を行い、原子上の電荷バランスとの観点から、解離でどのようなラジカルやイオンが生成され、酸化膜や窒化膜に使用できるかどうかを調べてみたのでその結果について報告する。