講演情報
[8p-PB1-13]回転式マルチリング型RFマグネトロンスパッタプラズマによる均一なターゲット利用
〇古森 正斗1、大津 康徳1 (1.佐大院理工学)
キーワード：
マグネトロンスパッタ法、ターゲット利用率、プラズマ
近年、生成AIの普及やDX化の進展に伴い、先端半導体デバイスの需要が増加している。半導体製造工程で広く用いられるマグネトロンスパッタ法では、ターゲット利用率の低さが課題となっている。本研究では、利用率向上を目的として新たなマルチリング型磁石配置を提案し、磁石間隔を短縮することで8か所に小型マグネトロンプラズマを形成した。磁界分布、プラズマ特性および銅ターゲット浸食分布への影響を比較評価した。