[8p-PB1-1~14] 8.1 プラズマ生成・診断

[8p-PB1-14] RFマグネトロンスパッタプラズマに及ぼすターゲット侵食分布の影響

〇井之上 侑世¹ (1.佐賀大学理工学研究科)

キーワード：

マグネトロンスパッタ法

マグネトロンスパッタ法では、ターゲットにドーナツ状のV字侵食溝が形成され、イオン密度分布や放電特性・成膜分布に影響を与える。本研究は高周波マグネトロンプラズマに対する表面形状の影響を解明するため、電磁界シミュレーションによりターゲット近傍のE×Bドリフト速度分布を解析した。