講演情報
[8p-PB3-19]PVAラミネーター転写グラフェンの微細加工による移動度の向上
〇(M2C)光安 孝太朗1、北崎 訓1、小川 友以2、鈴木 恭一1 (1.福岡工業大学、2.NTT物性基礎研)
キーワード：
グラフェン、PVA、ラミネーター
CVDで金属触媒上に成長したグラフェンを、PVAとラミネーター用いてSiO2/p-Si基板に転写し、微細Hall bar （8 μm x 8 μm）に加工して低温で伝導特性を調べた。量子ホール効果に対応する明瞭な縦抵抗（Rxx）の極小とホール抵抗（Rxy）のプラトーが観測された。これは、微細化によりドメイン境界における散乱の景響が低減し、電子移動度が向上したためであると考えられる。