[8p-PB3-1~46] 17 ナノカーボン・二次元材料（ポスター）

[8p-PB3-5] 静電スプレー堆積(ESD)法によるSnSナノスケール薄膜の堆積とSnS/Al₂S₃/Al MIS構造の検討

〇田中 水紗¹、松林 芳樹¹、柴田 圭亮¹、田中 哉多¹、杉山 睦^1,2 (1.東理大　創域理工、2.東理大　総研)

キーワード：

SnS、静電スプレー、硫化

本研究では、ESD法で堆積したSnSナノスケール薄膜に硫化処理を行い、SnS/Al₂S₃/Al MIS構造を試作した。またその電気特性について検討した。