講演情報
[8p-PB3-8]化学気相成長法による六方晶窒化ホウ素多層薄膜の合成
〇田上 翔太1、松永 貴子1、大塚 秀美1、内田 愛佳2、吾郷 浩樹2,3、河原 憲治1 (1.(同)二次元材料研究所、2.九大院総理工、3.九大半導体セ)
キーワード：
六方晶窒化ホウ素、hBN、化学気相成長法
プラットフォーム材料として注目される六方晶窒化ホウ素（hBN）多層薄膜の2028年事業化に向け、化学気相成長法（CVD）による生産技術開発を進めている。本発表では、合成の諸条件の検討を中心に、開発の進捗状況を報告する。