講演情報
[9a-PA2-5]急速乾燥における半導体ナノパターン閉塞抑制の分子動力学解析
〇篠崎 雄大1、山本 悠人1 (1.芝浦メカトロニクス株式会社)
キーワード：
分子動力学シミュレーション
半導体デバイスの微細化に伴い、高アスペクト比のナノパターンでは、ウェット洗浄後の乾燥時に毛細管力によるパターン閉塞が問題となる。本発表では、IPAを充填したナノパターンを対象に分子動力学解析を行い、通常乾燥と急速乾燥の挙動を比較したことを報告する。その結果、通常乾燥では液体ブリッジ形成により閉塞が発生した一方、急速乾燥ではパターン表面近傍からIPAが優先的に気化し、閉塞が回避できること確認された。