講演情報
[9a-PB2-14]窒素酸素混合ガスを用いたコバルト薄膜の大気圧プラズマ酸化
〇武村 海1、竹田 圭吾1 (1.名城大理工)
キーワード：
半導体、コバルト酸化物、大気圧プラズマ
Co酸化膜の作製には400から600℃の温度制御雰囲気下におけるCo膜の熱酸化プロセスを用いて比較的容易に作成することが可能であり、これまでにも本プロセスを用いて作成したCo酸化物の構造や電気的特性が報告されている。本研究では、より低温での酸化膜作成に向けて、大気圧酸素プラズマを用いたより低温下でのCo酸化膜の作成を試み、その特性評価を行った。