[9a-PB2-1~15] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[9a-PB2-15] SiエッチングにおけるSF₆/O₂プラズマの活性種バランスの動的制御

〇(M2)河野 伊吹¹、土岡 柊斗¹、井上 健一²、堤 隆嘉²、石川 健治² (1.名大院工、2.名大プラズマ)

キーワード：

SF6/O2プラズマ、反応性イオンエッチング、シリコン貫通ビア

高アスペクト比(HAR)Siエッチングでは、加工深さの増大に伴う活性種輸送の変化によりボーイングなどの異常形状が発生する。本研究では、SF₆/O₂プラズマを用いたSiエッチングを対象にPEGASUSおよびViennaPSによるシミュレーションと実験を組み合わせて形状形成機構を解析した。その結果、HAR構造内におけるO/Fフラックス比の輸送勾配とボーイング発生との関係を明らかにし、活性種バランスの動的制御による異常形状抑制について検討した。