講演情報
[9p-A22-9]多モード半導体ナノシートにおけるラフネス散乱平均自由行程の数値計算
〇山田 雄太1、森 伸也1 (1.阪大院工)
キーワード：
ナノシート、界面ラフネス
半導体ナノシートにおけるラフネス散乱がキャリア輸送に及ぼす影響の定量的理解は重要であり，これまで主に摂動論に基づいて数多く検討されてきた．一方，非摂動論的アプローチとして，単一モードナノシートの量子輸送シミュレーションから平均自由行程を抽出する手法も提案されている．本研究では，より現実的なデバイスサイズへの適用を目指し，複数の伝搬モードを有する多モードナノシートに対応可能な計算手法の開発を検討した．