講演情報
[9p-E208-5]水素雰囲気中における高強度EUV照射によるマスク材料のBlister耐性評価
〇(M1)中崎 優1、早勢 直紀1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県大)
キーワード：
EUV、ブリスター
EUVリソグラフィでは、水素雰囲気中での高強度EUV照射によりEUVマスクのBlister形成や酸化劣化が生じ、反射率低下や寿命低下の原因となる。本研究では、高強度EUV照射装置を用いてマスク材料のBlister耐性評価を行うとともに、水添加による酸化加速条件を検討し、反射率測定およびX線吸収分光測定により劣化機構の解明と加速評価手法の確立を目指した。