2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会
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一般セッション(口頭講演)7 ビーム応用：7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-E208-1~11]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2026年9月9日(水) 13:30 〜 16:30
E208 (総合教育棟 E棟)
座長：山本 治朗(日立)、 谷口 淳(東理大)
13:30 〜 13:45

[9p-E208-1]コリメート照明を用いた大間隙近接露光による緩曲面へのリソグラフィ

〇堀内 敏行1、岩崎 順哉1、小林 宏史1 (1.東京電機大工)
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13:45 〜 14:00

[9p-E208-2]軟Ｘ線共鳴散乱法によるレジスト凝集のプロセス影響評価

〇田中 歩1、山川 進ニ1、吉村 真史2、早勢 直紀1、原田 哲男1 (1.兵庫県立大学、2.スプリングエイトサービス)
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14:00 〜 14:15

[9p-E208-3]短波長EUVリソグラフィーのためのCMOS検出器を用いた高ダイナミックレンジ反射率測定の検討

〇(M1)坊垣 亮輔1、早勢 直紀1、吉村 真史2、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県立大学、2.スプリングエイトサービス)
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14:15 〜 14:30

[9p-E208-4]短波長EUV領域におけるレジスト感度評価の検討

〇(M1)西田 隆成1、山川 進二1、吉村 真史2、早勢 直紀1、原田 哲男1 (1.兵庫県立大工、2.スプリングエイトサービス)
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14:30 〜 14:45

[9p-E208-5]水素雰囲気中における高強度EUV照射によるマスク材料のBlister耐性評価

〇(M1)中崎 優1、早勢 直紀1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県大)
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14:45 〜 15:00

[9p-E208-6]EB / EUVリソグラフィ用有機無機ハイブリッドレジストのリソグラフィ性能
への有機配位子構造の効果

〇山本 洋揮1、濱田 崇1、古澤 孝弘2 (1.量研高崎、2.阪大産研)
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15:15 〜 15:30

[9p-E208-7]段差を有する基板への回転塗布後レジスト表面の凹凸形成メカニズム（２）

〇鹿浜 康寛1、本多 孝好1、萩本 賢哉1、白鳥 英2 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社、2.東京都市大学)
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15:30 〜 15:45

[9p-E208-8]HSQレジストを用いたSiおよびGC基板上への傾斜回折格子の作製とNIL転写

〇藤枝 聖1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
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15:45 〜 16:00奨励賞エントリー

[9p-E208-9]エステル/アルコール混合現像液によるPMMAレジストの感度向上

〇堀 菜津子1、岸村 由紀子1、星野 亮一2、浅田 裕法1 (1.山口大工、2.ファインマテリアルシステム)
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16:00 〜 16:15

[9p-E208-10]銀ナノ粒子が含まれるフォトレジストを用いた残膜レスUV-NIL, および転写パターンの導電性評価

〇(M2)芦田 拓望1、谷口 淳1 (1.東理大工)
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16:15 〜 16:30

[9p-E208-11]溶解性UV硬化樹脂を用いた反射防止金属自立膜の作製

〇小川 泰知1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
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