[9p-E208-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術 | 2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)7 ビーム応用：7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-E208-1~11]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2026年9月9日(水) 13:30 〜 16:30

E208 (総合教育棟 E棟)

13:30 〜 13:45

[9p-E208-1]コリメート照明を用いた大間隙近接露光による緩曲面へのリソグラフィ

〇堀内敏行¹、岩崎順哉¹、小林宏史¹ (1.東京電機大工)

13:45 〜 14:00

[9p-E208-2]軟Ｘ線共鳴散乱法によるレジスト凝集のプロセス影響評価

〇田中歩¹、山川進ニ¹、吉村真史²、早勢直紀¹、原田哲男¹ (1.兵庫県立大学、2.スプリングエイトサービス)

14:00 〜 14:15

[9p-E208-3]短波長EUVリソグラフィーのためのCMOS検出器を用いた高ダイナミックレンジ反射率測定の検討

〇(M1)坊垣亮輔¹、早勢直紀¹、吉村真史²、山川進二¹、原田哲男¹ (1.兵庫県立大学、2.スプリングエイトサービス)

14:15 〜 14:30

[9p-E208-4]短波長EUV領域におけるレジスト感度評価の検討

〇(M1)西田隆成¹、山川進二¹、吉村真史²、早勢直紀¹、原田哲男¹ (1.兵庫県立大工、2.スプリングエイトサービス)

14:30 〜 14:45

[9p-E208-5]水素雰囲気中における高強度EUV照射によるマスク材料のBlister耐性評価

〇(M1)中崎優¹、早勢直紀¹、山川進二¹、原田哲男¹ (1.兵庫県大)

14:45 〜 15:00

[9p-E208-6]EB / EUVリソグラフィ用有機無機ハイブリッドレジストのリソグラフィ性能
への有機配位子構造の効果

〇山本洋揮¹、濱田崇¹、古澤孝弘² (1.量研高崎、2.阪大産研)

15:15 〜 15:30

[9p-E208-7]段差を有する基板への回転塗布後レジスト表面の凹凸形成メカニズム（２）

〇鹿浜康寛¹、本多孝好¹、萩本賢哉¹、白鳥英² (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社、2.東京都市大学)

15:30 〜 15:45

[9p-E208-8]HSQレジストを用いたSiおよびGC基板上への傾斜回折格子の作製とNIL転写

〇藤枝聖¹、谷口淳¹ (1.東理大先進工)

15:45 〜 16:00奨励賞エントリー

[9p-E208-9]エステル/アルコール混合現像液によるPMMAレジストの感度向上

〇堀菜津子¹、岸村由紀子¹、星野亮一²、浅田裕法¹ (1.山口大工、2.ファインマテリアルシステム)

16:00 〜 16:15

[9p-E208-10]銀ナノ粒子が含まれるフォトレジストを用いた残膜レスUV-NIL, および転写パターンの導電性評価

〇(M2)芦田拓望¹、谷口淳¹ (1.東理大工)

16:15 〜 16:30

[9p-E208-11]溶解性UV硬化樹脂を用いた反射防止金属自立膜の作製

〇小川泰知¹、谷口淳¹ (1.東理大先進工)

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