講演情報
[9p-E208-8]HSQレジストを用いたSiおよびGC基板上への傾斜回折格子の作製とNIL転写
〇藤枝 聖1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
キーワード：
ビーム応用、微細パターン・微細構造形成技術、モールド・マスク
AR/VR用導波路ディスプレイの基幹光学素子として期待される傾斜表面レリーフ回折格子（SRG）の高精度作製を目的として、Si基板およびGC基板上にHSQレジストを用いた電子線リソグラフィによりサブマイクロメートル傾斜回折格子モールドを作製した。基板材料およびレジスト膜厚がパターン形成精度に与える影響を評価した結果、GC基板では電子後方散乱の低減により、ピッチ300 nmまで高品質な構造形成が可能であった。また、レジスト膜厚がライン幅に影響することを確認した。さらに、作製したモールドを用いたUVナノインプリント転写についても報告する。